厦门云天FinePitch光刻工艺突破2umL:创新突破实现微米级精度
2024-01-22在当今科技飞速发展的时代,微米级精度已经成为各个领域的追求目标。要实现这一目标却并非易事。幸运的是,厦门云天公司最新研发的FinePitch光刻工艺成功突破2umL,为实现微米级精度带来了巨大的突破。 FinePitch光刻工艺,这个名字听起来有些神秘,仿佛是来自未来的科技。它不仅仅是一种新的工艺,更是一种革命性的创新。通过FinePitch光刻工艺,我们可以实现微米级的精度,这是以往工艺无法企及的高度。这意味着,我们可以在微观领域中实现更精确的加工和制造,为科学研究和工业生产带来了巨大的潜力